JAKARTA – China membuat terobosan besar dalam industri semikonduktor global setelah, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), yang memproduksi chip dan semikonduktor Negeri Tirai Bambu, dilaporkan telah melakukan produksi chip 5 nm tanpa menggunakan litografi Ultraviolet Ekstrem (EUV).
Litografi EUV
Selama bertahun-tahun, konsensus industri yang berlaku adalah bahwa litografi EUV, yang hanya diproduksi oleh perusahaan Belanda ASML, sangat diperlukan untuk membuat chip dengan fabrikasi pada 5 nm dan di bawahnya. Tanpa akses ke sistem EUV karena pembatasan ekspor yang diberlakukan oleh Amerika Serikat (AS) dan sekutunya, sebagian besar analis meyakini ambisi chip China akan terhenti di angka 7 nm.
Namun, SMIC kini terus maju dan dengan menggunakan mesin Deep Ultra Violet (DUV) yang lebih lawas dipadu dengan serangkaian proses Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) yang sangat rumit, berhasil memproduksi chip 5 nm.
Analis semikonduktor William Huo menjelaskan dalam unggahan di X, bahwa proses ini dilakukan dengan penumpukan beberapa langkah litografi dan etsa, khususnya menggunakan SAQP, untuk meniru presisi EUV. Metode ini lebih lambat, lebih rawan kesalahan, dan mahal, tetapi membuahkan hasil.
Chip kelas 5 nm yang berfungsi, kabarnya sudah ada di perangkat seperti Huawei Mate 60 yang ditenagai Kirin 9000S, yang terkenal mengalahkan iPhone 15 dalam menawarkan dukungan panggilan satelit, demikian dilaporkan Gizmochina.
Pencapaian SMIC ini juga menyoroti kemajuan pesat China dalam perkakas semikonduktor. Perusahaan-perusahaan tool semikonduktor China, yang dahulu dianggap berusaha mengejar ketertinggalan, sekarang menjadi bagian dari rantai pasokan semikonduktor yang paralel dan mandiri.
“Ini bukan sekadar duplikasi,” tegas Huo dalam unggahannya. “Ini adalah pabrik garis depan.” China tidak lagi meniru—mereka mengulanginya dengan caranya sendiri, dengan tumpukan teknologinya sendiri.
